精准气体控制，助力芯片制造——易度MFC在半导体行业的应用

在当今信息化高速发展的时代，半导体作为各类智能设备的核心元件，其制造工艺复杂而精细，对工艺环境提出了要求。其中，气体的精准输送与控制，是半导体工艺成败的关键之一。作为气体流量控制领域的专业企业，易度智能以高性能MFC（质量流量控制器）为核心，为半导体行业的多道核心工艺环节提供了高可靠性的解决方案。

气体流量控制在半导体工艺中的关键作用

在半导体芯片的制造过程中，气体被广泛应用于以下核心工艺中：

化学气相沉积（CVD）：需将反应气体均匀注入反应室，形成致密薄膜；

等离子体刻蚀（Plasma Etching）：通过活性气体选择性蚀刻晶圆表面图形；

离子注入（Ion Implantation）：需要稳定的载气和保护气体环境；

气体清洗与腔体保护：诸如氮气吹扫、惰性气体保护等操作；

前道与后道工艺的洁净控制：确保气体成分、压力和流量在微小波动范围内。

这些工艺环节中，对气体流量的精度、稳定性、重复性和响应速度都有极为严苛的要求，任何微小的波动都有可能影响器件性能或导致良率下降。

易度MFC产品优势：专为半导体工艺而生

作为国内流量计与控制器品牌，尤其是目前关税的增加使得国产替代进口产品的趋势逐日上升，易度MFC专为半导体行业工艺特点定制，具备以下核心优势：

1. 高精度 ±1%F.S. 或更优

采用先进的层流压差式质量流量测量原理，结合智能补偿算法，对气体温度和压力变化具有良好适应性，可稳定控制各类腐蚀性与惰性气体流量。

2. 快速响应 ≤1毫秒调节稳定

控制响应速度快，适应半导体工艺对气体启闭时间敏感的特点，减少等待时间，提高产线节拍效率。

3. 良好的重复性与线性

流量重复性优于±0.2%F.S.，长期工作状态下稳定性高，为关键工艺参数的可控性提供保障。

4. 高兼容性接口与通讯协议

支持多种通讯方式（如RS485、Modbus、0-5V/4-20mA模拟信号等），可无缝对接半导体工艺平台主控系统。

5. 洁净工艺设计，支持高纯气体

产品支持VCR卡套连接，洁净焊接工艺，适用于半导体级高纯气体输送，避免污染风险。

应用案例：某晶圆代工厂的典型气体输送控制系统

在某一12英寸晶圆制造厂中，易度MFC被应用于CVD工艺中三种前驱体气体的混合输送系统，具体需求如下：

混合气体比例控制精度 ±1%以内

单台设备日均运行时间 ≥20小时

对N₂、SiH₄、NH₃等多种气体兼容性要求高

易度提供的多通道质量流量控制系统，配合温压补偿与自动调零功能，实现了长期稳定运行，设备换线时间缩短20%以上，显著提升了良率。

以流量之“控"，护工艺之“精"

在半导体行业迈向更高制程节点的征程中，每一滴气体的精准控制都是对品质的承诺。易度智能将继续以技术实力和丰富的行业经验，为半导体客户提供更高效、更智能的气体流量解决方案，与产业链携手共进，共创“芯"未来。