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  • 2025

    4-21

    在光伏制造领域,气体流量的精准控制是提升工艺质量和生产效率的核心需求之一。随着光伏技术向高效化、精密化方向发展,层流压差式质量流量控制器(LaminarDifferentialPressureMassFlowController,简称层流压差式MFC)凭借其测量原理和性能,逐渐成为光伏行业气体流量控制的关键设备。层流压差式MFC基于流体力学中的哈根-泊肃叶定律(Hagen-PoiseuilleLaw),通过层流元件强制气体进入层流状态(雷诺数Re光伏行业中的应用场景薄膜沉积工...

  • 2025

    4-18

    随着真空技术在半导体、材料科学、光学镀膜等领域的广泛应用,对气体流量的精准控制需求日益凸显。层流压差式流量计凭借其高精度、快速响应及低压损特性,成为真空工艺中气体流量测控的核心工具。一、真空行业的工艺需求在真空工艺中,气体流量控制需满足以下特殊要求:微流量精准控制:如真空镀膜工艺中,氩气、氮气等工艺气体的流量需稳定在mL/min级,微小偏差会导致镀膜厚度不均或成分异常。快速动态响应:等离子体刻蚀等工艺需毫秒级气体切换,传统流量计因响应延迟易造成工艺波动。低压损适应性:真空环境...

  • 2025

    4-17

    一、工作原理与核心技术层流压差式流量计基于哈根-泊肃叶定律,通过将湍流转化为层流状态,利用压差与流量的线性关系实现精准测量。其核心组件包括精密层流元件和压差传感器,通过实时计算两点间的压差推算流量值。与传统流量计相比,其优化设计的层流元件可避免湍流干扰,显著提升测量精度。二、核心优势解析1.高精度与稳定性测量精度可达±0.5%RD,在低流量范围(如mL/min级)仍保持稳定,满足半导体工艺对气体浓度的严苛要求。层流状态的设计保障了长期稳定性,减少校准频率,适用于...

  • 2025

    4-15

    智能国产质量流量控制器(MFC)广泛应用于半导体制造、光伏产业、生物医药、化学分析等领域,其高精度、快速响应和稳定性为工业生产提供了可靠保障。以下从安装、调试到日常维护,提供一份完整的操作指南。一、安装前准备环境要求安装位置应远离电磁干扰源(如变压器、电机),建议距离≥5米。确保通风良好,避免高温、高湿或腐蚀性气体环境。地面水平,承载能力满足设备重量要求。工具与材料洁净气管(推荐使用不锈钢或聚四氟乙烯材质)。标准接头(如VCR型、世伟洛克卡套管接头)。防静电工具、密封胶带、真...

  • 2025

    4-15

    国产替代浪潮下的技术突围:陕西易度智能如何以“中国精度”重构流量测控产业版图——解析中美关税战下的国产化优势与创新路径在中美贸易摩擦持续升级的背景下,关税壁垒已成为中国制造业“卡脖子”难题的放大器。然而,危机中亦孕育机遇。陕西易度智能科技有限公司(以下简称“易度智能”)凭借自主研发的高精度层流质量流量计与控制器,不仅打破了国际品牌在微流量测控领域的垄断,更以“中国精度”为国产替代提供了样本。本文将从技术突破、市场策略及产业链协同三方面,剖析其在中美关税战下的竞争优势与解决方案...

  • 2025

    4-14

    思考一个问题:为什么需要精确测量质量流量?在工业生产与科研实验中,流体的质量流量(单位时间内流过某一截面的流体质量)是生产过程控制、能源管理和安全监测的关键参数。不同于体积流量受温度、压力影响的局限性,质量流量的直接测量更能反映真实的物质传递效率。而层流压差式质量流量计因其原理与稳定性,成为高精度测控领域的核心技术之一。首先我们需要从他们的核心原理去看层流压差式质量流量计的原理是基于哈根泊肃叶定律主要分为两个步骤:第一步是建立层流状态:通过流量计内部的层流元件把湍流状态下的流...

  • 2025

    4-11

    与传统流量计相比,快速响应气体质量流量计的不同之处主要体现在以下几个方面:一、测量原理传统流量计:基于体积流量进行测量,即流体通过管道的体积在单位时间内的流量。常见的传统流量计有涡轮式流量计、电磁式流量计、超声波流量计等,它们内部有运动部件,通过不同的物理原理来测量流量。快速响应气体质量流量计:基于质量流量进行测量,即流体通过管道的质量在单位时间内的流量。它采用先进的传感器技术和信号处理技术,能够实时监测流量信息。二、测量精度与稳定性传统流量计:受到压力和温度等多种因素的影响...

  • 2025

    4-11

    在当今信息化高速发展的时代,半导体作为各类智能设备的核心元件,其制造工艺复杂而精细,对工艺环境提出了要求。其中,气体的精准输送与控制,是半导体工艺成败的关键之一。作为气体流量控制领域的专业企业,易度智能以高性能MFC(质量流量控制器)为核心,为半导体行业的多道核心工艺环节提供了高可靠性的解决方案。气体流量控制在半导体工艺中的关键作用在半导体芯片的制造过程中,气体被广泛应用于以下核心工艺中:化学气相沉积(CVD):需将反应气体均匀注入反应室,形成致密薄膜;等离子体刻蚀(Plas...

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